東大が半導体の熱放射を倍増させる技術を開発 カメラの過熱問題解消なるか

半導体の熱放射を倍増させる特許

東京大学の研究グループが半導体シリコンの熱放射を倍増する技術を開発したと発表したそうです。局所的な発熱の熱放射を倍増させることができるということで、発熱問題の解消に期待がかかると記述されています。

大量のデータをやりとりしたり、演算能力を高めようとすると、それらのメモリ、CPU、SSDなどが発熱することはよく知られています。そのためにCPUには冷却ファンが取り付けられ、SSDやメモリにも巨大なヒートシンクが取り付けられることがあります。

このことはカメラでも同様です。カメラでは主に発熱源となるものとしてイメージセンサー、イメージプロセッサ、メモリカードであると言われています。もし放熱量が2倍になれば、それだけイメージプロセッサやメモリ本体そのものは冷めやすくなるでしょうから、より熱の管理が簡単になるかもしれません。

これで熱をカメラ本体から外部にうまく放熱できるようになれば、いまの動画撮影時のオーバーヒート問題や、ファンが必要になってしまう問題も解消することができるかもしれないので、さらなる技術開発に期待したいですね。

（記事元）Yahooニュース