キヤノンが新半導体製造装置を出荷
キヤノンが新開発した世界初の技術を採用した半導体製造装置の出荷が開始されたようです。この記事ではキヤノンの半導体製造装置について詳しくお伝えします。
キヤノンの次世代半導体製造装置「ナノインプリントリソグラフィ（NIL）装置」が動き出す。同社は26日、NIL装置を発売後初めて納入すると発表し、米テキサス大学オースティン校が支援する半導体研究のコンソーシアム「TIE」向けに出荷を開始した。先端半導体の製造では蘭ASMLの極端紫外線（EUV）露光装置が覇権を握るが、キヤノンはNIL装置をてこに最先端への再参入を狙う。
“ハンコ”のように回路を形成
記事によれば、キヤノンはナノインプリント半導体製造装置をアメリカのテキサスにある工場に向けて出荷したことが明らかになりました。このナノインプリントリソグラフィ技術は、回路のパターンをハンコのように押しつけることで回路を形成することができるのだそうです。
できるだけ小さな面積に回路を作れば、それだけ製品コストが安くなるわけですが、光で転写する方式では微細化のためには波長の短い露光装置が必要になり、さらに高出力が必要になるそうです。そのためコストがかかるわけですが、このナノプリントリソグラフィではハンコのように押しつけるだけで済むため、電力消費やコストを抑えられることがメリットとなるようです。
かつてはキヤノンやニコンが半導体製造装置のシェアは高かったのですが、いまでは他社に負けている状況で、このような新しい技術でどのように巻き返しができるのかといったことが重要になるようですね。
さらに「EOS R6 Mark III試験機はすでに野外でテスト中!? 実機の画像も流出している様子」ではR6 IIIの噂について詳しくお伝えします。
（記事元）ニュースイッチ
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コメント
コメント一覧 （1件）
ナノプリントはEUV露光に比べると消費電力は少ないけれど、ウェハーの位置合わせに時間がかかるためスループットが低く、その分台数を増やさないといけないということで、半導体製造メーカーからは問い合わせは多くあるものの様子見のところがほとんどだったようですが、ついに出荷されたのですね。