キヤノンのナノプリント半導体露光装置はEUVより1桁安い
キヤノンが新開発したナノプリント技術を採用した半導体露光装置はかなり低価格になる可能性があるようです。
御手洗氏は都内の本社での先月のインタビューでナノインプリント装置の特長について、「ＥＵＶに比べて全然安い。１桁違う」と述べ、「存在価値が非常にある」とした。具体的な社名の言及はしなかったが、半導体メーカーでは「期待してくれているところがたくさんある」とも述べた。
半導体の微細化に欠かせないＥＵＶ装置の供給は、現時点ではオランダのＡＳＭＬホールディングが独占。ただ同装置は１台200億円程度と高額で、導入企業は限られている。ブルームバーグのデータによると、同社の顧客には台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）や韓国サムスン電子などが含まれる。
キヤノンの半導体露光装置についてBloombergが報じています。
記事によればキヤノン社長へのインタビュー記事として、キヤノンが開発したナノプリント技術を採用した半導体露光装置について、EUVよりも1桁ぐらい安くなる可能性があるようです。
キヤノンの仕組みは回路パターンが記述されたマスクを押しつけて回路を形成する方法です。EUVというのは光を投影して回路を作る方法で、キヤノンの仕組みのほうがかなり廉価な製造装置とすることが可能となっているようです。
しかし、別記事になりますが、キヤノンのこの製品が世界最先端のEUVと同等になるまでには何年もかかる可能性があるそうです。というのも欠陥のある製品ができてしまう可能性が高く、歩留まりが向上するのにはまだまだ時間がかかるというのです。EUVと同じぐらいの歩留まりが可能となれば、キヤノン製品の優位性はかなり高まると思うので、今後の技術革新に期待したいところですね。
（記事元）https://news.yahoo.co.jp/articles/59f85284e53a21914f4afed6b1d96c7d35b45907
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今の所最先端の微細な半導体は無理のようですね。
今後も難しそうです。
遙かに数で勝る汎用の半導体用を考えているように思えます。
またキヤノンがスマートフォン用等に開発している超薄型のメタレンズの
製造過程が同じなので当該レンズ製造用に使う事も考えているのかもしれません。