ニコンとキヤノン 半導体不足のいま新たな技術でシェア拡大目指す

半導体不足でニコン、キヤノンはシェア拡大なるか

キヤノン、NILでコスト抑制

 一方、キヤノンの目玉は、キオクシアホールディングス(旧東芝メモリホールディングス)、大日本印刷と共同で開発を進めている「ナノインプリント(NIL)半導体製造装置」。既存の露光技術が光で回路を焼き付けるのに対し、NILは型を半導体ウエハーに押しつけて回路パターンを形成する。既存の露光技術と比べてプロセスを単純化できるため、製造コストや消費電力の抑制につながる。

(中略)

 気になるのが実用化の時期。開発を始めて現在約10年経つというが、まだ実用化の時期は明らかになっていない。

ニコン、ArF液浸に磨き

 同社は、かつてArF液浸露光装置の販売台数増加による売上高拡大を目指していたものの、ASMLとの技術差が埋まらず、収益が悪化した。16年から始めた構造改革以降、ArF液浸の開発を縮小。特定の顧客へ露光装置を販売する方針に改め、案件を絞りこんできた経緯がある。現在、販売先の大半を米インテルが占めると言われている。

(中略)

 ただ、ASMLはArF液浸露光装置のシェアでもニコンを上回っているとみられる。その中で浜谷常務執行役員は「競合にない特徴を出すということが大事」と認識。3次元化に特化したArF液浸装置の投入により、競合と差別化を図りたい考えだ。

ニュースイッチ

半導体不足で、半導体製造装置を発売するメーカはシェアの獲得に必死になっているようです。いま最先端の微少な回路線幅を利用する半導体の製造は、ASMLという会社がシェアをほぼ独占しているような状態になっているそうです。

ただキヤノンやニコンもその他の製造方式について研究を進めていて、半導体不足で半導体製造装置の需要が高まっているいま、製品をなんとか販売したいということで取り組んでいるようですね。

記事にもありますが、キヤノンはナノインプリントという新たな半導体露光技術を採用しようとしているようです。そして、ニコンはかつて研究した技術に磨きをかけて市場に投入したいとしているようです。

ただし、それぞれ問題があって、キヤノンが採用したい製造方法は実用化の目処がたっておらず、ニコンが採用したい製造方法についてもASMLとの技術差がまだまだあり、シェアでもASMLのほうがニコンより上にあるということで、なかなか難しい状況にあるようですね。

カメラの市場が縮小しているなかで、半導体製造装置の需要が高まっているのは、ニコンとキヤノンにとっては朗報になるのかなと思います。そして、いまはかなりの円安になっていますので、製品価格を安くできることもニコンやキヤノンの製造装置にとってはプラスに働く可能性があると思いますね。

いずれにせよ他社にはないオリジナルの技術がないと製品は売れないので、環境がいいうちに技術を高めて、再び高いシェアを取り戻してくれればいいなと思います。

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